家都知道我们缺光刻机，同增32.2%。公司预测净销售额增加的1500亿日元全为半导体生产设备，美国不让荷兰的阿斯麦，该领域销售额全年将达到1.79万亿日元，将EUV光刻机卖给我国，同增36.3%，这对我国的芯片制造行业来说，占全净销售额的96.9%，是个相当致命的问题，较去年94%的占比再度提升。公司指出，严重制约了芯片制造行业的发展，随着社会数字化转型、如数据中心投资的进一步加速，很多人都认为，对尖端逻辑和内存芯片的需求急剧上升，光刻机是最卡脖子的一项技术，预计晶圆制造设备（WFE）市场将幅增长，但家不知道的是其实有一种材料，预计2021年该市场将同比增长40%左右。分应用来看，对芯片制造的影响完全不下于光刻机，逻辑/晶圆制造领域将同比增长约45%，它就是被称为半导体材料皇冠上的明珠的光刻胶，光刻胶绝对是芯片制造领域，最卡脖子的材料之一。
如今，的光刻胶绝分被日本垄断，事实上，日本厂商占据全球80%的光刻胶市场，的晶圆厂也因此非常依赖日本，一旦日本有出现任何风吹草动，必然会在整个芯片领域掀起波澜，今年5月的一则消息震惊了整个产业界，掌握全球20%市场份额的日本光刻胶公司信越化学，突然宣布限制供货一线晶圆厂KrF光刻胶，甚至直接断供分小厂家的KrF光刻胶。
是日本又加入共同遏制芯片发展的阵营了吗？幸运的是情况并没有这么糟糕，断供是因为几个月前，日本福岛的东海域发生7.3级地震，导致信越化学的KrF光刻胶生产线被破坏，严重影响了该公司的产能，为此不得不对外减少供应。
虽然不是故意断供，但是这也让芯片行业意识到，光刻胶过于依赖外国的危险性，虽然现在日本没有在这方面打压的打算，但是我们却不得不防一手，也许哪天在美国的压力下，日本也同样加入打压芯片的行列，光刻胶国产化迫在眉睫，华为在这种情况下又一次出手，根据相关媒体报道，华为旗下的投资公司哈勃，在不久前为徐州博康信息化学品公司，投资了3亿元，这是华为哈勃历史上在半导体领域最的单笔投资，这是势必要打破外国垄断的打算。
相关资料显示，徐州博康在我国的光刻胶领域排名前列，拥有完整的光刻胶产业链，甚至已经完成从单体材料，到光刻胶的成品的全品类国产化，目前，徐州博康是唯一一家，可以规模化生产高端光刻胶单体材料的企业，2019年，它也成为光刻胶单体的国标制定单位，如今，徐州博康已经出十几个高端光刻胶产品，其中包括193nm，KrF干法光刻胶，248nmKrF正负形光刻胶，365nm，I线正负形光刻胶等，近期，徐州博康还将新建以及工厂，建成后将年产1100吨光刻材料，以及1万吨电子溶剂等，预估产值能够达到20亿元，其实，国产的光刻胶一定在一定程度上，打破了外国的垄断。
光刻胶能走到今天这一步并不容易，外国一直对进行技术封锁，即使在与的合作当中，也会避开在公司面前讨论技术问题，徐州博康的董事长博志伟，曾经在一次公开采访时表示，在一次与美国和日本公司的合作中，三方约定在日本开会，但是在博志伟介绍完公司的产品后，美国公司的代表直接让企业先出去，他们要进行下一阶段的技术讨论，可见，美国和日本对光刻胶技术的保密有多严格。
虽然已经在一定程度上，打破了外国的垄断，但是在最顶尖的产品上，我国依旧无法和日本相比，尤其是在ArF光刻胶的技术上，有晶圆厂光刻胶的负责人认为，在ArF光刻胶上基本上一片空白，当然，这种说法有些过于偏颇，如今，徐州博康正在进行干法ArF光刻胶的测试，湿法ArF光刻胶也正在研发，此外，北京华科也正在研发干法ArF光刻胶，但是，这种说法也侧面证明，在这方面的确还有所欠缺，对来说，目前光刻胶的研发，还存在许多行业壁垒，其中，最的两块壁垒在市场和技术上。
市场方面，光刻胶虽然是芯片制造中，不可或缺的一个环节，但是在芯片领域却只能算是个小市场，PCB，和LCD显示领域的低端光刻胶，再加上集成电路领域的ArF，KrF，EUV光刻胶等，加起来市场规模也仅有90亿美元，在这种情况下，有日本的巨头垄断整个市场之后，后来的小公司就很难在这个市场上有进展，很有可能会受到来自巨头的降维打击，这也导致很多企业不会入。
在技术上存在的技术壁垒，是如今光刻胶国产化的最阻碍，和芯片行业的其它领域一样，美国，日本等对实行技术封锁，很难从外界获得新技术，自己研发起来非常复杂，首先光刻胶对材料的要求非常高，原材料的，的精密度等，都会影响到光刻胶的品质，此外，不同的芯片制造技术和制造方法，对光刻胶的要求也不同，因此，不同的芯片，甚至不同的公司，都需要特定的光刻胶，这必须要进行单独的定制，这种定制就要求国内企业的实力必须要强。
除了材料以外，还有一个东西非常限制光刻胶的发展，那就是光刻胶必须和IC制造工业相结合，因此，想要研发光刻胶必须刻机，光刻机的价格高昂，一台EUV光刻机价值1亿美元，DUV光刻机也要6000万美元左右，因此研发的成本高，但是，更的困难在于我国获得光刻机的难度很，最先进的EUV光刻机根本拿不到，而次一等的DUV光刻机同样也受限制，幸运的是，如今的国产光刻机在崛起，虽然还无法制造端的EUV光刻机，但是普通的DUV光刻机制造已经不成问题，在现阶段，这足够光刻胶的研发使用。
尽管光刻胶的研发困难，但是有华为这样的企业愿意投资，光刻胶的进步依然不成问题，事实上，除了华为之外，科华，南，晶瑞等国内公司，都积极投入高端光刻胶的研发当中，有这些公司的推动，完全突破封锁希望增，不管花费多的代价，我们都必须实现光刻胶国产化，这是芯片国产化必不可少的一环。
市场的全力发动，对日本信越化学这样的光刻胶巨头，并不是什么好消息，本身全球的光刻胶市场就不，多一个竞争者就多个人分利润，而且绝对是全球最的市场，企业在本土当然有一定的优势，一旦成功突破封锁，信越化学的市场必然会被蚕食。
标签：
