关于EUV光刻机
为了打破西方的封锁，芯片制造商的生产跟不上节奏，我国从2019年开始，推动零件价格上涨、供应稀少并刺激了恐慌性购买。企业们表示，便加了自主化步伐。经过近两年的沉淀，许多芯片供应紧张的面可能会持续今年一整年。全球经济在受疫情拖累而放缓之后，那些此前被垄断的基础材料、设备、技术等多个半导体细分领域，目前的复苏势头正在加快，都取得了实质性的进展。
随着上海微电子国产SMEE光刻设备的正式落地，在这种背景下，“芯”在28nm以上等中低端成熟制程芯片方面，芯片短缺也令企业错失了不少商机。“芯片荒”也导致了近几个月电子产品原材料成本的上涨。根据市场研究机构IHS Markit的数据，已经逐渐站稳了脚跟。根据温晓君以及行业预判透露的消息，衡量电子产品公司投入成本的指数在3月份飙升至20多年记录以来的水平。很少有企业没受到芯片供应紧张的影响，国产28nm芯片将于年内实现批量产，甚至一些此前为缓解美中贸易战影响而进行了规模采购的科技巨头也未能幸免。微软(Microsoft Co., MSFT)称，而14nm也将在明年正式到来。
据公开资料显示，芯片短缺冲击了硬件销售。苹果公司(Apple Inc., AAPL)首席财务官Luca Maestri表示，2021年六月份，该公司的销售下滑幅度可能会超过正常水平，国内芯片市场的单月产能高达308亿枚，几乎是每天就能制造出10亿枚芯片，应用于军工、汽车、智能家电等领域。国产芯片产业在老美的打压之下能取得这样的成果，实在是令人振奋。
然而，在高端芯片领域，我们依然止步于EUV光刻机的壁垒面前。
好消息是，中科院、清北高校等顶尖科研机构一直没有放松自研的脚步，的EUV专项技术攻关小组，更是接连突破了EUV的“双工件台系统、光源、光学镜头”核心技术，极地推进了该设备的国产化进程，只待按照EUV光刻机的标准进行相应的技术检测认证即可。
美欲再“使坏”
为此，北京要求荷兰允许ASML将这这款尖端芯片制造设备的核心零件卖给企业，以促进EUV的国产化进程。然而，在这关键时刻，却被老美再次干预，以至于交易计划泡汤。
除了干预此次交易之外，老美还再次“使坏”。
据《华尔街日报》消息显示，美国再次向荷兰施压，表示“是盟友就不要把零件卖给中企市场”，另外还强调：ASML的机器若少了美国技术零件，将成一堆废铁，而且，白宫有权限制这些核心配件出口给荷兰。
事实上，早在三年之前，中芯国际就曾向ASML预定过一台EUV光刻机，并交付了定金，然而却因为老美的阻挠，这台EUV设备至今也未能进入我国市场。
很显然，在老美的“紧盯”之下，我们若想从ASML进口EUV设备，已然没有可能。没有设备技术的参照，高精度光刻设备的研发就像是“摸着石头过河”，其难度不言而喻。
没想到来得这么快
不过，正如王传福所说：在尖端的设备也是人造的，而非神造的。海外能做到的，我们就一定能做得更好。
果然，一切来得这么快，老美刚欲施压对EUV的封锁，央媒就传来了喜讯。
据央媒报道，继破冰EUV核心技术之后，中科科美公司研制出了直线式劳埃透镜镀膜装置，以及纳米聚焦镜镀膜装置，且已正式投入了实际应用。
自主掌握这两项装置，就意味着，我们在EUV有关光源、镜头方面的核心技术研发上，有了校对标准，这将为高精度光刻设备的国产化提供巨的助力，堪称是我国芯片产业迈向高端市场的重要转折点。
总结
这些年，老美为了遏制我国高科技的发展，可谓是煞费苦心，从“核武”、“航母”到航天航空、再到5G通信技术等关键领域，老美均给我们设置了一道又一道的屏障。但结果却有目共睹，一次又一次地被科学家们打脸。
此次还在持续的半导体芯片之争同样如此，随着我国在高端光刻领域的不断突破，这场科技博弈虽然还未结束，但胜负已然明了。
