关于EUV光刻机
自从2019年之后，华为海思半导体就是其中的代表。另一方面是因为芯片制造方面出现了“断点”，由于美国利用非市场化手段限制了我国高科技企业在高端芯片上的获取途径，先进工艺芯片严重依赖进口，于是我国开始了芯片产业链的自我构建行动，或者设计好之后找人代工。也正是因为这些因素，经过两年多来的努力，美国一纸通牒，当下我国在芯片设计、芯片封装、芯片代工等多个方面都取得了巨成绩，让华为芯片无法量产，根据行业预判，手机无法出货，预计2021年我国将实现28nm芯片的100%自主性量产，余承东发布会上几度哽咽。然而，2022年有望实现14nm芯片的自主性量产。
这一切的成绩都是喜人的，不只是我国企业，但是在这些喜人成绩背后，即便是美国也缓过神儿来，我国在芯片领域却依旧有着一个难题没有突破，发现自己的芯片代工业务也存在着短板，那就是EUV光刻机，和普通DUV光刻机有所不同，能否获得EUV光刻机直接关系着我国高端芯片的自主化突破问题，因为EUV光刻机一直被应用于10nm制程以下的芯片生产上，因此在2018年中芯国际也尝试从荷兰ASML公司进口EUV光刻机，但是结果却是，在美国的限制之下，一直未能进口成功。
根据7月18日《华尔街日报》消息显示，美国再次出手施压荷兰，限制荷兰出口EUV光刻机给我国市场。
国产EUV光刻机喜讯传来
面对美国的举动无疑是令人气愤的，因为美国恶意阻碍我国企业对于EUV光刻机的进口早已经违反了公平交易的原则，不过，面对美国方面的无赖举动，我国却并没有停止芯片技术的自我发展。
并且，在美国加紧对我国EUV光刻机进口限制的关键时刻，央视方面却传来了喜讯，并且喜讯还是一次传两条，其一就是中科院高能物理研究所承建，国内首台高能同步辐射光源科研设备开始安装，其二则是中科科仪旗下的中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置正式投入使用。
这两技术的落地意味着国产EUV光刻机喜讯传来了，为什么这么说呢？
首先，家都知道EUV光刻机中最核心也是最难的三个分就是双工作台、光源、光学镜头，之前光源和工作台的问题已经完成了攻克，唯一缺的就是光学镜头，据悉当下全球只有蔡司能够生产EUV光刻机所用镜头，因为EUV光刻机对于镜头的要求极高。
但是，现在不一样了，有了中科科仪推出的镜镀膜装置，可以满足多数物理镜头对膜层制备的工艺需求，自然也满足EUV光刻机所需光镜头的工艺需求，这样就能够在一定程度上降低国产设备厂商在光刻镜头中所面临的压力，让我国自研EUV光刻机更快迈入成功。
中科院果然说到做到
面对EUV光刻机制备上核心技术的突破，外界也传来评论表示，中科院果然说到做到，因为在2020年9月16日中科院院长曾表态，将在光刻机等方面集结精锐力量组织系统攻关。
没有想到，在短短1年不到的时间里，我国在EUV光刻机技术方面就取得了这样惊人的成绩。
总结
虽然说，这些单独技术的突破还不能让我国立刻打造出EUV光刻机，但是这些技术的突破却让我国能够加速我国EUV光刻机的突破，看来之前ASML公司CEO对于美国所警告的，“如果不把光刻机卖给，概三年以后，就会掌握这个技术了”，正逐渐变为现实。
因为，我们现在已经掌握到了EUV光刻机突破的最核心技术。
你觉得接下来我国实现高端芯片的自给自足还需要多久呢？
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